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射頻等離子清洗機 RPD-5
  • 射頻等離子清洗機 RPD-5

射頻等離子清洗機 RPD-5

自動片式等離子清洗機

【設備功能及應用】

主要用于芯片貼裝、引線鍵合、底部膠填充、模塑等半導體封裝工藝前的清洗和表面活化,有效去除封裝物料表面的有機污染物和氧化物,提高界面粘接和鍵合性能,大幅優化封裝良率。配置高效的引線框架或基板自動上下料系統,該設備具有清洗周期短和均勻性好等特點,尤其適用于對清洗效果要求非常高的批量生產應用。


【產品特點】

增強的表面處理效果

產品清洗均勻高和一致性好

工藝過程智能化操作和顯示

引線框架自動上下料設計(標準4軌道/最多6軌道)

軌道寬度可快速自動調節

高產能(5軌道下450片/小時)

特有的腔室底部氣冷設計

基于工控機和PLC的觸屏控制系統


【技術參數】

等離子頻率

13.56MHz (射頻)

等離子功率

標準600W (可選1000W)

發生器冷卻

氣冷,位于腔室底部

產品尺寸

長度:最大260mm

寬度:30-60mm(5軌道),30-80mm(4軌道),大于80mm(1-3軌道)

厚度:最大1mm

軌道數量

標配4軌道(數量可定制,最多6軌道)

軌道寬度

30-60mm(5軌道),30-80mm(4軌道),大于80mm(1-3軌道),可快速自動調節

SPH

450片(5軌道模式)

腔內尺寸

W280mm x D440mm x H55mm

質量流量計

標配1個(可選2個),流量100 SCCM / MFC

真空規

皮拉尼規或電容薄膜規

真空泵

內置干泵,抽速60m3/h@50Hz

控制系統

Windows觸摸屏工控機+PLC控制,支持手動和自動操作,支持工藝程序編輯/存儲/運行,支持工藝數據自動記錄和顯示,支持連接MES系統

外形尺寸

W1080mm x D1800mm x H1500mm(不含三色燈)

重量

約700Kg

電源

AC380V, 3P+N+PE, 50Hz, 5kW

破真空氣體

N2,0.4MPa

工藝氣體

Ar、Ar/H2混合氣、O2等,0.15-0.2MPa

壓縮空氣

0.5-0.6MPa


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